【フォトリソグラフィ】最先端の半導体露光装置が数ナノメートルの表面加工できる仕組み

EUVフォトリソグラフィ技術には様々な技術が集結していますが、今回はEUV光源を調べてみました。非常に難解です･･･。

動画を作成する際に下記のリンクを参考にしました。

・KOMATSU TECHNICAL REPORT
2016 VOL. 62 NO.169
半導体製造用短波長光源：エキシマレーザーからLPP‐EUV光源への挑戦
https://home.komatsu/jp/company/tech-innovation/report/pdf/170331_06.pdf

・日本貿易振興機構
10ナノの壁、極端紫外線（EUV）で乗り越える
https://www.jetro.go.jp/world/asia/kr/ip/ipnews/2020/201112.html

・オリンパス
顕微鏡の光学原理 ～顕微鏡の能力～
https://www.olympus-lifescience.com/ja/support/learn/02/035/

・ウシオ電機
光技術情報誌「ライトエッジ」No.30（2008年3月発行）
４.これからの光源　４.１ EUV 光源
https://www.ushio.co.jp/jp/technology/lightedge/200803/100353.html

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